G-33E6型高精密光刻機

產(chǎn)品介紹：

設備概述

本設備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專(zhuān)院校、科研單位，主要用于集成電路、半導體元器件、光電子器件、光學(xué)器件研制和生產(chǎn),由于本機找平機構**，找平力小，使本機不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片的曝光，而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片的曝光, 這是一臺雙面對準單面曝光的光刻機,它不僅能完成普通光刻機的任何工作,同時(shí)還是一臺檢查雙面對準精度的檢查儀。

主要構成

主要由高精度對準工作臺、雙目分離視場(chǎng)立式顯微鏡或雙目分離視場(chǎng)臥式顯微鏡、數字式攝像頭、計算機成象記憶系統、6″高均勻性蠅眼專(zhuān)用曝光頭、

主要功能特點(diǎn)

采用版不動(dòng)，片動(dòng)的下置式三層導軌對準方式，使導軌自重和受力方向保持一致，自動(dòng)消除間隙；承片臺升降采用無(wú)間隙滾珠直進(jìn)導軌、氣動(dòng)式

4.可靠性高
采用PLC控制、進(jìn)口（日本產(chǎn)）電磁閥和按鈕、獨特的氣動(dòng)系統、真空管路系統和經(jīng)過(guò)精密機械制造工藝加工的零件，使本機運行具有非常高的可靠性且操作、維護、維修簡(jiǎn)便。

5. 特設功能
 除標準承片臺外，我公司還可以為用戶(hù)定制專(zhuān)用承片臺，來(lái)解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開(kāi)所引起的版片無(wú)法對準的問(wèn)題。

（1）高均勻蠅眼曝光頭。

a.高壓球形汞燈；

b.曝光面積：150mm×150mm；

c.曝光強度：≤20mW/cm²汞燈（進(jìn)口）；

d.光源平行性：≤3.5°；

e.照明不均勻性： ±3%（ Φ100mm范圍）；±4%（Φ150mm范圍）；

g.套刻精度：1μm

(2)觀(guān)察系統為上下各兩個(gè)無(wú)級變倍、高分辨率單筒顯微鏡上裝四個(gè)CCD攝像頭通過(guò)視屏線(xiàn)連接計算機到19″高清液晶顯視屏上。

a. 單筒顯微鏡為1.6X～10X連續變倍顯微鏡；

b. CCD攝像機靶面對角線(xiàn)尺寸為：1/3″；

c. 采用19″液晶監視器，其數字放大倍率為19÷1/3=57倍；

d. 觀(guān)察系統放大倍數為：1.6×57=91倍（放小倍數）

 10×57=570倍（放大倍數）；