G-33D6型高精密光刻機

產(chǎn)品介紹：

設備概述

本設備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專(zhuān)院校、科研單位，主要用于集成電路、半導體元器件、光電子器件、光學(xué)器件研制和生產(chǎn),由于本機找平機構**，找平力小，使本機不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片的曝光，而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片的曝光, 這是一臺雙面對準單面曝光的光刻機,它不僅能完成普通光刻機的任何工作,同時(shí)還是一臺檢查雙面對準精度的檢查儀。

主要構成LED專(zhuān)用曝光頭、

曝光頭及部件圖

主要功能特點(diǎn)

1.適用范圍廣5mm以下的各種基片)的對準曝光。

2.套刻精度高、速度快Z軸升降機構和雙簧片微分離機構，使本機片對版在分離接觸時(shí)漂移特小，對準精度高，對準速度快，從而提高了版的復用率和產(chǎn)品的成品率。

3.可靠性高

采用PLC控制、進(jìn)口（日本產(chǎn)）電磁閥和按鈕、獨特的氣動(dòng)系統、真空管路系統和經(jīng)過(guò)精密機械制造工藝加工的零件，使本機運行具有非常高的可靠性且操作、維護、維修簡(jiǎn)便。

4. 特設功能

除標準承片臺外，我公司還可以為用戶(hù)定制專(zhuān)用承片臺，來(lái)解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開(kāi)所引起的版片無(wú)法對準的問(wèn)題。

主要技術(shù)指標

（1）6″LED紫外專(zhuān)用曝光頭

（2）曝光面積：150mm×150mm；

（3）曝光強度：0～30mw/cm2可調；

（4）紫外光束角：≤3°；

（5）照明不均勻性改為≤3%；

（6）紫外光中心波長(cháng)：365nm；

（8）工作面溫度：≤30℃

（10）曝光分辨率：1μm(曝光深度為線(xiàn)寬的10倍左右)

（11）曝光時(shí)間采用0～999.9秒（日本OMRON生產(chǎn)）時(shí)間繼電器控制。<span style="font-family:;" "="">

（12）套刻精度：1μm

（13）觀(guān)察系統為上下各兩個(gè)無(wú)級變倍、高分辨率單筒顯微鏡上裝四個(gè)CCD攝像頭通過(guò)視屏線(xiàn)連接計算機到19″高清液晶顯視屏上。

a、 單筒顯微鏡為1.6X～10X連續變倍顯微鏡；

b、CCD攝像機靶面對角線(xiàn)尺寸為：1/3″；

c、 采用19″液晶監視器，其數字放大倍率為19÷1/3=57倍；

d、觀(guān)察系統放大倍數為：1.6×57=91倍（放小倍數）

10×57=570倍（放大倍數）；