設備概述:

 本設備是我公司根據市場(chǎng)需求研發(fā)的產(chǎn)品，其突出的特點(diǎn)是曝光面積大，通常情況下為Φ4"，對被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對多種材料的基片進(jìn)行光刻，它特別適用一次光刻的產(chǎn)品，可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤(pán)等，按用戶(hù)要求可提供圓形承片臺或方形承片臺,承片臺都能實(shí)現“真空密著(zhù)”曝光，加之光均勻性好（Φ100mm范圍內≤±3%），所以大大提高光刻質(zhì)量。

主要構成
主要由防震工作臺、高均勻性4"蠅眼曝光頭、氣動(dòng)系統、電氣控制系統、真空管路系統、直聯(lián)式真空泵及附件箱等組成。

主要功能特點(diǎn)

1.適用于5mm以下的各種基片)的一次曝光。

2.本設備配置有可實(shí)現真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著(zhù)機構；具

3. 操作簡(jiǎn)便

4. 設備運行穩定、可靠

5. 特設功能

主要技術(shù)參數：

1、曝光面積：Φ4"，配置4"蠅眼專(zhuān)用曝光頭

2、實(shí)現“真空密著(zhù)”曝光，（通過(guò)調整真空度能實(shí)現硬接觸、軟接觸或微力接觸曝光）。但基片厚度≤2mm。

3、曝光*小分辨率為2μm。

4、可以為用戶(hù)制作具有預定位機構的專(zhuān)用承片臺，片對版的預定位精度≤±0.1mm。

5、曝光頭用燈為<span style="font-size:16px;line-height:150%;font-family:;" "="">GCQ350Z型高壓水銀直流汞，光強≤10mw/cm2，光的不均勻性在Φ100mm范圍內≤±3%，可以通過(guò)調節曝光頭光柵來(lái)改變光強。