G-33D4型高精密光刻機

產(chǎn)品介紹：

設備概述

本設備廣泛用于各大、中、小型企業(yè)、大專(zhuān)院校、科研單位，主要用于集成電路、半導體元器件、光電子器件、光學(xué)器件研制和生產(chǎn),由于本機找平機構**，找平力小，使本機不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片的曝光，而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片的曝光, 這是一臺雙面對準單面曝光的光刻機,它不僅能完成普通光刻機的任何工作,同時(shí)還是一臺檢查雙面對準精度的檢查儀。

主要構成LED專(zhuān)用曝光頭、

  主要功能特點(diǎn)

（1）4″LED紫外專(zhuān)用曝光頭

（2）曝光面積：110mm×110mm；

（3）曝光強度：0～30mw/cm2可調；

（4）紫外光束角：≤3°；

（5）照明不均勻性： ≤3%；

（6）紫外光源壽命：≥2萬(wàn)小時(shí)；

（7）采用電子快門(mén)；

（8）套刻精度：1μm

（9）觀(guān)察系統為上下各兩個(gè)無(wú)級變倍、高分辨率單筒顯微鏡上裝四個(gè)CCD攝像頭通過(guò)視屏線(xiàn)連接計算機到19″高清液晶顯視屏上。

a、 單筒顯微鏡為1.6X～10X連續變倍顯微鏡；

b、CCD攝像機靶面對角線(xiàn)尺寸為：1/3″；

c、 采用19″液晶監視器，其數字放大倍率為19÷1/3=57倍；

d、觀(guān)察系統放大倍數為：1.6×57=91倍（*小倍數）

10×57=570倍（*大倍數）；