G-43B6型高精密單面光刻機

產(chǎn)品介紹：

設備概述:

本設備是我公司根據市場(chǎng)需求研發(fā)的產(chǎn)品，通常情況下可曝光基片尺寸為：Φ6"，對被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對多種材料的基片進(jìn)行光刻，它特別適用做一次光刻的產(chǎn)品，可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤(pán)等。加之光均勻性好（Φ150mm范圍內≤±6%），所以大大提高了設備的光刻質(zhì)量

主要構成
主要由防震工作臺、高均勻性曝光頭、氣動(dòng)系統、電氣控制系統、真空管路系統、直聯(lián)式真空泵及附件箱等組成。 1. 適用范圍廣Φ150mm以下，厚度(包括非圓形基片

本設備配置有可實(shí)現真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著(zhù)機構；具有真空掩膜版架、真空片吸盤(pán)。3. 操作簡(jiǎn)便

采用進(jìn)口電磁閥、按鈕、定時(shí)器；采用獨特的氣動(dòng)系統、真空管路系統和精密的機械零件，使本機具有非常高的可靠性。5. 特設功能

主要技術(shù)參數：

1、操作方式：手動(dòng)；

2、曝光模式：接觸式曝光；

3、出射光斑≤φ150mm；

4、紫外光源：g線(xiàn)（436nm）或i線(xiàn)（365nm）；

5、光強≥5mw/cm2（i線(xiàn)365nm; h線(xiàn)405nm; g線(xiàn)453nm的組合紫外光）；

6、曝光分辨率：3um；

7、曝光頭汞燈為GCQ350W型**壓直流球形汞燈。