G-43B4型高精密單面光刻機產(chǎn)品介紹：

設備概述:

本設備是我公司根據市場(chǎng)需求研發(fā)的產(chǎn)品，通常情況下可曝光基片尺寸為：Φ4"，對被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對多種材料的基片進(jìn)行光刻，它特別適用做一次光刻的產(chǎn)品，可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤(pán)等，此設備光的均勻性非常好（在Φ100范圍內≤±4%），所以大大提高了設備的光刻質(zhì)量。

主要構成
主要由防震工作臺、高均勻性曝光頭、氣動(dòng)系統、電氣控制系統、真空管路系統、直聯(lián)式真空泵及附件箱等組成。

曝光頭及部件圖

主要功能特點(diǎn)

1.適用范圍廣
適用于Φ100mm以下，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的一次曝光。
2.結構穩定
本設備配置有可實(shí)現真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著(zhù)機構；具有真空掩膜版架、真空片吸盤(pán)。
3.操作簡(jiǎn)便
本設備操作簡(jiǎn)單，調試、維護、修理等都非常簡(jiǎn)便。
4.設備運行穩定、可靠
采用進(jìn)口電磁閥、按鈕、定時(shí)器；采用獨特的氣動(dòng)系統、真空管路系統和精密的機械零件，使本機具有非常高的可靠性。
5.特設功能
除標準承片臺外，還可以為用戶(hù)定制專(zhuān)用承片臺，來(lái)解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開(kāi)所引起的版片無(wú)法對準的問(wèn)題

主要技術(shù)指標

1．操作方式：手動(dòng)；

2．曝光模式：接觸式曝光；

3．曝光面積：Φ4"；

4．紫外光源：g線(xiàn)（436nm）或i線(xiàn)（365nm）；

5.曝光分辨率：3um；

6．曝光頭汞燈為GCQ350W型**壓直流球形汞燈。