G-25X型高精密光刻機

產(chǎn)品介紹：

設備概述:

本設備是我公司專(zhuān)門(mén)針對各大專(zhuān)院校及科研單位對光刻機的使用特性研發(fā)的一種高精密光刻機，它 主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。

主要功能特點(diǎn)

主要技術(shù)指標

1.  設備能真空吸附5"×5"方形掩板,對版的厚度無(wú)特殊要求（1～3mm皆可）。

2.  設備能適用于Φ100mm圓形基片（或100×100mm方形基片），基片厚度≤5mm,當您的基片厚度≤1mm時(shí)，我公司為本機配置標準承片臺（不另計費），當基片厚度＞1mm時(shí)，設備需配置專(zhuān)用承片臺（訂貨時(shí)用戶(hù)須說(shuō)明，費用另議）。  

3.  照明：  

光源：采用GCQ350Z型高壓水銀直流汞。

照明范圍：≤ф117mm曝光面積：Φ100mm在Φ100mm范圍內,曝光不均勻性≤±4%，曝光強度：≥6mw/ cm2（此指標用紫外光源I線(xiàn)365nm測量）。

4.  本設備采用進(jìn)口時(shí)間繼電器控制氣動(dòng)快門(mén)，動(dòng)作準確、可靠。

5.  本機為接觸式曝光機，但可實(shí)現：

a.  硬接觸曝光：用管道真空來(lái)獲得高真空接觸，真空≤-0.05MPa。

b.  軟接觸曝光：接觸壓力可將真空降到-0.02MPa ～ -0.05MPa之間。

c.  微力接觸曝光：小于軟接觸，真空≥-0.02MPa。

6.  曝光分辯率：本設備硬接觸曝光的分辨度可達1μm以上。

7. 對準：觀(guān)察系統為兩個(gè)單筒顯微鏡上裝二個(gè)CCD攝像頭，通過(guò)視屏線(xiàn)連接到顯視屏上。

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