鑫南光公司小編為大家介紹關(guān)于成都光刻機的產(chǎn)品特點(diǎn)：

一、主要用途

本設備是我公司針對各大專(zhuān)院校及科研單位對光刻機的使用特性專(zhuān)門(mén)研發(fā)的一種精密光刻機，它 主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。

二、主要構成

主要由高精度對準工作臺、雙目分離視場(chǎng)CCD顯微顯示系統、曝光頭、氣動(dòng)系統、真空管路系統、直聯(lián)式真空泵、防震工作臺和附件箱等組成。

三、主要功能特點(diǎn) :

1.適用范圍廣:

適用于Φ100mm以下，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準曝光。

2.結構穩定

具有半球式找平機構和可實(shí)現真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著(zhù)機構；具  有真空掩膜版架、真空片吸盤(pán)。

3.操作簡(jiǎn)便

采用翻板方式取片、放片；按鈕、按鍵方式操作，可實(shí)現真空 吸版、吸片、吸浮球、吸掃描鎖等功能，操作、調試、維護、修理 都非常簡(jiǎn)便。

4.可靠性高

采用進(jìn)口電磁閥、按鈕、定時(shí)器；采用獨特的氣動(dòng)系統、真空管路系統和精密的機械零件，使本機具有非常高的可靠性。

5.特設“碎片”處理功能

解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開(kāi)所引起的版片無(wú)法對準的問(wèn)題。

四、主要技術(shù)指標:

1、曝光頭:采用蠅眼曝光頭

2、曝光類(lèi)型：?jiǎn)蚊?/p>

3、曝光面積：φ100mm

4、光束不平行度：≤6°

5、曝光不均勻性：≤±3%

6、掩模版尺寸：2.5″×2.5″、4″×4″、 5″×5″

7、基片尺寸：φ2″、φ3″、φ4″

8、基片厚度：≤5 mm

9、曝光強度：≥5mw/cm2

10、曝光分辨率：≤1.0μm

11、曝光模式：套刻曝光

12、對準精度：1μm

13、掃描范圍：X：±40mm   Y：±35mm

14、對準范圍：承片臺相對于版運動(dòng)為：

①x、y±5mm運動(dòng)，放大比為400:1；

②Q轉動(dòng)為±5°；③Z軸運動(dòng)≤4mm；

15、密著(zhù)曝光方式：密著(zhù)曝光可實(shí)現硬接觸、軟接觸和微力接觸曝光；

16、顯微系統：雙視場(chǎng)CCD系統；連續可調（物鏡0.7～4.5倍連續可調）；

計算機圖像處理系統；

17、曝光燈功率：直流350W

18、曝光定時(shí)：0～999.9秒可調

19、電源：AC220V 50Hz 1kW

20、空氣：P≥0.1MPa，耗氣量0.2m3小時(shí)；

21、真空度：-0.07MPa～-0.09MPa

22、外形尺寸：918×680×1450(L×W×H)mm

23、重量：～160kg

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