鑫南光小編為大家介紹四川精密光刻機產(chǎn)品介紹：

一、主要用途：

本設備用于中小規模集成電路、半導體元器件、聲表面波器件研制和生產(chǎn)。找平機構穩定性高，找平力小。且應對特殊基片表現卓越，如易碎的砷化鉀、磷化銦等基片，以及非圓形、小型基片時(shí)，可憑借找平力小的優(yōu)勢，能不損壞基片順利曝光且滿(mǎn)足曝光需求。

二、主要技術(shù)參數 ：

1.適用于對Φ4″以下只需一次曝光的各種基片進(jìn)行曝光，基片厚度要求0～5mm。

2.光源采用200W直流汞燈，曝光頭光束不均勻性≤±6%（Φ100mm范圍以?xún)龋?/p>

3.采用時(shí)間繼電器（可調節）控制曝光頭的快門(mén)。

4.具有兩個(gè)真空密著(zhù)承片臺（一個(gè)在曝光時(shí)，另一個(gè)可進(jìn)行上下片的操作），根據用戶(hù)需求，我公司可制作圓形或方形真空密著(zhù)承片臺。

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