G-43Y6型高精密單面光刻機

產(chǎn)品介紹：

設備概述:

本設備是我公司根據市場(chǎng)需求研發(fā)的產(chǎn)品，通常情況下基片尺寸為：Φ6"，對被光刻基片的外形、厚度要求較低，可對多種材料的基片進(jìn)行光刻。它特別適用進(jìn)行一次光刻的產(chǎn)品,可制作聲表面器件、可控硅、小液晶顯示器、傳感器、二極管、園光柵、編碼盤(pán)等。按用戶(hù)要求可提供圓形承片臺或方形承片臺,不管哪一種承片臺，都能實(shí)現“真空密著(zhù)”曝光,加之光均勻性好，所以大大提高光刻質(zhì)量。 <span style="font-family:;" "="">
主要由防震工作臺、高均勻性6"蠅眼曝光頭、氣動(dòng)系統、電氣控制系統、真空管路系統、直聯(lián)式真空泵及附件箱等組成。

  適用于<span style="font-size:16px;font-family:;" "="">Φ6"以下，厚度(包括非圓形基片
  2. 結構穩定

有真空掩膜版架、真空片吸盤(pán)。

本設備操作簡(jiǎn)單，調試、維護、修理等都非常簡(jiǎn)便

采用進(jìn)口電磁閥、按鈕、定時(shí)器；采用獨特的氣動(dòng)系統、真空管路系統和精密的機械零件，使本機具有非常高的可靠性。

除標準承片臺外，還可以為用戶(hù)定制專(zhuān)用承片臺，來(lái)解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開(kāi)所引起的版片無(wú)法對準的問(wèn)題<span style="font-size:12.0pt;font-family:;" "="">

主要技術(shù)參數：

1、操作方式：手動(dòng)。

2、曝光模式：接觸式曝光。

3、曝光面積曝光面積：150mm×150mm。

4、紫外光源：g線(xiàn)（436nm）和i線(xiàn)（365nm）

5、實(shí)現“真空密著(zhù)”曝光，但基片厚度≤2mm。

6、分辨率：Φ100mm范圍內≤2um

7、照明不均勻性： ±3%（ Φ100mm范圍）；±5%（ Φ150mm范圍）；

8、曝光光源：350W汞燈（進(jìn)口）；

9、曝光強度：≤20mW/ cm2

10、光源平行性：≤3.5°；

11、樣品尺寸：Φ150mm。