G-30D4型高精密單面光刻機

設備概述:

本設備為我公司專(zhuān)門(mén)針對各大、中、小型企業(yè)的使用特性而研發(fā)的一種高精密雙面光刻機，它主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn),它具有生產(chǎn)效率高、結構簡(jiǎn)單、操作維護方便等優(yōu)勢，本機不僅適合4英寸以下各型基片的曝光，也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。 主要由防震工作臺、LED專(zhuān)用曝光頭、氣動(dòng)系統、電氣控制系統、真空管路系統、直聯(lián)式真空泵及附件箱等組成。

曝光頭及部件圖

主要功能特點(diǎn)

Φ100mm以下，厚度(包括非圓形基片

2. 結構穩定

有真空掩膜版架、真空片吸盤(pán)。

本設備操作簡(jiǎn)單，調試、維護、修理等都非常簡(jiǎn)便。  

采用進(jìn)口電磁閥、按鈕、定時(shí)器；采用獨特的氣動(dòng)系統、真空管路系統和精密的機械