G-25D4型高精密光刻機

設備概述:

本設備是我公司專(zhuān)門(mén)針對各大專(zhuān)院校及科研單位對光刻機的使用特性研發(fā)的一種精密光刻機，它 主要用于中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。

主要構成
主要由高精度對準工作臺、雙目分離視場(chǎng)CCD顯微顯示系統、LED曝光頭、PLC電控系統、氣動(dòng)系統、真空管路系統、直聯(lián)式真空泵、二級防震工作臺和附件箱等組成。

主要功能特點(diǎn)

1.適用范圍廣
適用于Φ100mm以下，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準曝光。
2.結構穩定
具有氣浮式找平機構和可實(shí)現真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著(zhù)機構；具有真空掩膜版架、真空片吸盤(pán)。
3.操作簡(jiǎn)便
采用翻板方式取片、放片；按鈕、按鍵方式操作，可實(shí)現真空吸版、吸片、吸浮球、吸掃描鎖等功能，操作、調試、維護、修理 都非常簡(jiǎn)便。
4.可靠性高
采用進(jìn)口電磁閥、按鈕、定時(shí)器；采用獨特的氣動(dòng)系統、真空管路系統和精密的機械零件，使本機具有非常高的可靠性。

5.特設功能
除標準承片臺外，還可以為用戶(hù)定制專(zhuān)用承片臺，來(lái)解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開(kāi)所引起的版片無(wú)法對準的問(wèn)題。

主要技術(shù)指標：

1、曝光類(lèi)型：?jiǎn)蚊?；配?/span>4"LED專(zhuān)用曝光頭

2、曝光面積：110×110mm；

3、曝光照度不均勻性：≤±3%；

4、曝光強度：0～30mw/cm²可調；

5、紫外光束角：≤3°；

6、紫外光中心波長(cháng)：365nm；

7、紫外光源壽命：≥2萬(wàn)小時(shí)；

8、采用電子快門(mén)；

9、曝光分辨率：1μm

10、顯微鏡掃描范圍：X： ±15mm   Y：±15mm；

11、對準范圍：X、Y 調節 ±4mm；Q向調節±3°；

12、套刻精度：1μm；

13、分離量；0～50μm可調；

14、曝光方式：接觸式曝光，可實(shí)現硬接觸、軟接觸和微力接觸曝光；

15、找平方式：氣浮找平；

16、掩模版尺寸：≤127×127mm；

17、基片尺寸：≤Φ102mm(或者102×102mm)；

18、基片厚度：≤5 mm；

19、曝光定時(shí)：0～999.9秒可調；