成都精密光刻機的主要用途和主要性能指標：

1、 主要用途：

（1） 這是一臺雙面對準單面曝光的光刻機；

（2） 這臺機器又能完成普通光刻機的任何工作；

（3） 同時(shí)又是一臺檢查雙面對準精度的檢查儀。

2、 主要性能指標：

（1） 高均勻性蠅眼曝光頭。

a、 采用350W直流球形汞燈；

b、 出射光斑≤φ116mm；

c、 光強≤15mw；

d、 光的不均勻性≤±3%；

e、 光強度可通過(guò)光闌或汞燈電流調節，3～15mw任意調節；

f、 曝光時(shí)間采用0～999.9秒（日本OMRON生產(chǎn)）時(shí)間繼電器控制。

g、 對準精度：±0.5μm

h、 套刻精度：1μm

（2） 觀(guān)察系統為上下各兩個(gè)無(wú)級變倍、高分辨率單筒顯微鏡上裝四個(gè)CCD攝像頭通過(guò)視屏線(xiàn)連接計算機到19″高清液晶顯視屏上。

a、 單筒顯微鏡為0.7X～4.5X連續變倍顯微鏡；

b、 CCD攝像機靶面對角線(xiàn)尺寸為：1/3″,6mm；

c、 采用19″液晶監視器，其數字放大倍率為17×25.4/6=72倍；

d、 觀(guān)察系統放大倍數為：0.7×72=50.4倍（*小倍數）

4.5×72=324倍（*大倍數）；

e、右表板上有一視屏轉換開(kāi)關(guān)：向左為下二個(gè)CCD，向右為上二個(gè)CCD。

（3）計算機硬軟件系統：

a、鼠標單擊“開(kāi)始對準”，能將監視屏上的圖形記憶下來(lái)，并處理成透明的，以便對新進(jìn)入的圖形進(jìn)行對準；

b、鼠標雙擊左面或右面圖形，就分別全屏顯示左或右面圖形。

（4）非常特殊的板架裝置：

a、該裝置能分別裝入100×100板架或125×125板架，對版進(jìn)行真空吸附；

b、該裝置安裝在機座上，能?chē)@A點(diǎn)作翻轉運動(dòng)，相對于承片臺而言作上下翻轉運動(dòng)，以便于上下版和上下片；

c、該裝置來(lái)回反復翻轉，回到承片臺上平面的位置，重復精度為≤±1.5μ；

d、該裝置具有補償基片楔形誤差之功能，**版下平面與片上平面之良好接觸，以便提高曝光質(zhì)量。

（5）承片臺調整裝置：

a、 配備有Φ75、Φ100承片臺各一個(gè)，這二種承片臺有二個(gè)長(cháng)方孔，下面二個(gè)CCD通過(guò)該孔能觀(guān)察到版或片的下平面；

b、 承片臺能作X、Y、Z、θ運動(dòng)，X、Y、Z可作±5mm運動(dòng)，θ運動(dòng)為±5°；

c、 承片臺密著(zhù)環(huán)相對于版，能實(shí)現“真空密著(zhù)”：

真空密著(zhù)力≤-0.05Mpa為硬接觸；

真空密著(zhù)力≤-0.05Mpa～-0.02Mpa為軟接觸；

真空密著(zhù)力≤-0.02Mpa為微力接觸；

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