成都鑫南光機械設備有限公司帶大家一起來(lái)看一下成都真空鍍膜機的參數：

一、真空鍍膜機主要用途：

供制備薄膜無(wú)源微型元件。

二、主要技術(shù)指標：

1．          蒸發(fā)室極限真空度：       4×10-4Pa

2．          蒸發(fā)室恢復4×10-3Pa的時(shí)間：  ≤15min

3．          基片旋轉架的轉速：           0～60n/min

4．          基片烘烤溫度：               室溫～350℃

5．          蒸發(fā)電極數量：               3對

6．          蒸發(fā)電極參數：                0～10伏   0～300A

7．          離子轟擊參數：                0～3000伏  0～200mA

8．          鐘罩容積：                    Φ500×620（mm）

9．          需要動(dòng)力：                   電力    10KW

10．         外形尺寸：                     1300×830×1720(mm)

希望以上關(guān)于成都真空鍍膜機的介紹對你有所幫助，更多信息可以直接撥打網(wǎng)站上的咨詢(xún)電話(huà)和我們取得聯(lián)系。